對(duì)材料表面保護(hù)、裝飾形成的覆蓋層,如涂層、鍍層、敷層、貼層、化學(xué)生成膜等,在有關(guān)和標(biāo)準(zhǔn)中稱為覆層(coating)。
覆層厚度測(cè)量已成為加工工業(yè)、表面工程質(zhì)量檢測(cè)的重要一環(huán),是產(chǎn)品達(dá)到優(yōu)等質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)的*手段。為使產(chǎn)品化,我國(guó)出口商品和涉外項(xiàng)目中,對(duì)覆層厚度有了明確的要求。
覆層厚度的測(cè)量方法主要有:1楔切法、2光截法、3電解法、4厚度差測(cè)量法、5稱重法、6 X射線熒光法、7 β射線反向散射法、8電容法、9磁性測(cè)量法、10渦流測(cè)量法等。這些方法中前五種是有損檢測(cè),測(cè)量手段繁瑣,速度慢,多適用于抽樣檢驗(yàn)。
X射線和β射線法是無(wú)接觸無(wú)損測(cè)量,但裝置復(fù)雜昂貴,測(cè)量范圍較小。因有放射源,使用者必須遵守射線防護(hù)規(guī)范。X射線法可測(cè)薄鍍層、雙鍍層、合金鍍層。β射線法適合鍍層和底材原子序號(hào)大于3的鍍層測(cè)量。
電容法僅在薄導(dǎo)電體的絕緣覆層測(cè)厚時(shí)采用。
隨著技術(shù)的日益進(jìn)步,是近年來(lái)引入微機(jī)技術(shù)后,采用磁性法和渦流法的測(cè)厚儀向微型、智能、多功能、、實(shí)用化的方向進(jìn)了一步。測(cè)量的分辨率已達(dá)0.1微米,精度可達(dá)到1%,有了大幅度的提高。它適用范圍廣,量程寬、操作簡(jiǎn)便且價(jià)廉,是工業(yè)和科研使用廣泛的測(cè)厚儀器。
采用無(wú)損方法既不破壞覆層也不破壞基材,檢測(cè)速度快,能使大量的檢測(cè)工作經(jīng)濟(jì)地進(jìn)行。
測(cè)量原理與儀器
一、磁感應(yīng)測(cè)量原理
采用磁感應(yīng)原理時(shí),利用從測(cè)頭經(jīng)過(guò)非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小,來(lái)測(cè)定覆層厚度。也可以測(cè)定與之對(duì)應(yīng)的磁阻的大小,來(lái)表示其覆層厚度。覆層越厚,則磁阻越大,磁通越小。利用磁感應(yīng)原理的測(cè)厚儀,原則上可以有導(dǎo)磁基體上的非導(dǎo)磁覆層厚度。一般要求基材導(dǎo)磁率在500以上。如果覆層材料也有磁性,則要求與基材的導(dǎo)磁率之差足夠大(如鋼上鍍鎳)。當(dāng)軟芯上繞著線圈的測(cè)頭放在被測(cè)樣本上時(shí),儀器自動(dòng)輸出測(cè)試電流或測(cè)試信號(hào)。早期的產(chǎn)品采用指針式表頭,測(cè)量感應(yīng)電動(dòng)勢(shì)的大小,儀器將該信號(hào)放大后來(lái)指示覆層厚度。近年來(lái)的電路設(shè)計(jì)引入穩(wěn)頻、鎖相、溫度補(bǔ)償?shù)鹊匦录夹g(shù),利用磁阻來(lái)調(diào)制測(cè)量信號(hào)。還采用設(shè)計(jì)的集成電路,引入微機(jī),使測(cè)量精度和重現(xiàn)性有了大幅度的提高(幾乎達(dá)一個(gè)數(shù)量級(jí))?,F(xiàn)代的磁感應(yīng)測(cè)厚儀,分辨率達(dá)磁感應(yīng)測(cè)厚儀_電渦流測(cè)量原理_磁吸力測(cè)量原理及測(cè)厚儀_電渦流原理的測(cè)厚儀到0.1um,允許誤差達(dá)1%,量程達(dá)10mm。
磁性原理測(cè)厚儀可應(yīng)用來(lái)測(cè)量鋼鐵表面的油漆層,瓷、搪瓷防護(hù)層,塑料、橡膠覆層,包括鎳鉻在內(nèi)的各種有色金屬電鍍層,以及化工石油待業(yè)的各種防腐涂層。
代表產(chǎn)品有時(shí)代公司的:TT220
TT220涂層測(cè)厚儀,鍍層測(cè)厚儀,油漆測(cè)厚儀,絕緣層測(cè)厚儀 涂層測(cè)厚儀TT220采用了磁性測(cè)厚法,是一種小型測(cè)量?jī)x,它能快速、無(wú)損傷、精頦地進(jìn)行鐵磁性金屬基體上的覆層厚度的測(cè)量??蓮V泛用于制造業(yè)、金屬加工業(yè)、化工業(yè)、商檢等檢測(cè)領(lǐng)域。由于該儀器體積小,測(cè)頭與儀器一體化,適用于工程現(xiàn)場(chǎng)測(cè)量。 特點(diǎn): 可進(jìn)行零點(diǎn)校準(zhǔn)及二點(diǎn)校準(zhǔn)。 可對(duì)測(cè)頭進(jìn)行基本校準(zhǔn)。 設(shè)有五個(gè)統(tǒng)計(jì)量:平均值(MEAN)、大值(MAX)、小值(MIN)、測(cè)試次數(shù)(NO)、標(biāo)準(zhǔn)偏差(S.DEV)。 保修條款:按照規(guī)定 TT220涂層測(cè)厚儀,鍍層測(cè)厚儀,油漆測(cè)厚儀,絕緣層測(cè)厚儀 實(shí)行三包,儀器保修一年,終身維護(hù)!
TT220涂層測(cè)厚儀,鍍層測(cè)厚儀,油漆測(cè)厚儀,絕緣層測(cè)厚儀
可存貯和統(tǒng)計(jì)計(jì)算15個(gè)測(cè)量值。
具有兩種測(cè)量方式:連續(xù)測(cè)量方式(CONTINUE)和單次測(cè)量方式(SINGLE)。
具有自動(dòng)關(guān)機(jī)功能。
刪除功能:對(duì)測(cè)量中出現(xiàn)的單次可疑數(shù)據(jù)進(jìn)行刪除,也可刪除存貯區(qū)內(nèi)的所有數(shù)據(jù),以便進(jìn)行新的測(cè)量。
操作過(guò)程有蜂鳴聲提示。
有欠壓指示功能。
有錯(cuò)誤提示功能。
TT220涂層測(cè)厚儀,鍍層測(cè)厚儀,油漆測(cè)厚儀,絕緣層測(cè)厚儀主要技術(shù)指標(biāo)
測(cè)量原理:磁性法
測(cè)量范圍:1~1250μm
測(cè)量精度:±(3%H+1)μm(零點(diǎn)校準(zhǔn))
±[(1~3)%H+1] μm(二點(diǎn)校準(zhǔn))
二、電渦流測(cè)量原理
高頻交流信號(hào)在測(cè)頭線圈中產(chǎn)生電磁場(chǎng),測(cè)頭靠近導(dǎo)體時(shí),就在其中形成渦流。測(cè)頭離導(dǎo)電基體愈近,則渦流愈大,反射阻抗也愈大。這個(gè)反饋?zhàn)饔昧勘碚髁藴y(cè)頭與導(dǎo)電基體之間距離的大小,也就是導(dǎo)電基體上非導(dǎo)電覆層厚度的大小。由于這類(lèi)測(cè)頭專(zhuān)門(mén)測(cè)量非鐵磁金屬基材上的覆層厚度,所以通常稱之為非磁性測(cè)頭。非磁性測(cè)頭采用高頻材料做線圈鐵芯,例如鉑鎳合金或其它新材料。與磁感應(yīng)原理比較,主要區(qū)別是測(cè)頭不同,信號(hào)的頻率不同,信號(hào)的大小、標(biāo)度關(guān)系不同。與磁感應(yīng)測(cè)厚儀一樣,渦流測(cè)厚儀也達(dá)到了分辨率0.1um,允許誤差1%,量程10mm的高水平。
采用電渦流原理的測(cè)厚儀,原則上對(duì)所有導(dǎo)電體上的非導(dǎo)電體覆層均可測(cè)量,如航天航空器表面、車(chē)輛、家電、鋁合金門(mén)窗及其它鋁制品表面的漆,塑料涂層及陽(yáng)氧化膜。覆層材料有一定的導(dǎo)電性,通過(guò)校準(zhǔn)同樣也可測(cè)量,但要求兩者的導(dǎo)電率之比至少相差3-5倍(如銅上鍍鉻)。雖然鋼鐵基體亦為導(dǎo)電體,但這類(lèi)任務(wù)還是采用磁性原理測(cè)量較為合適。
代表產(chǎn)品有時(shí)代公司的:TT230
涂層測(cè)厚儀TT230是一種小型的測(cè)量?jī)x,它能快速、無(wú)損傷、精頦地進(jìn)行非磁性金屬基體上非導(dǎo)電覆層厚度的測(cè)量。可廣泛用于制造業(yè)、金屬加工業(yè)、商檢等檢測(cè)領(lǐng)域。由于該儀器體積小,測(cè)頭與儀器一體化,適用于工程現(xiàn)場(chǎng)測(cè)量。
涂層測(cè)厚儀TT230有以下特點(diǎn)
可進(jìn)行零點(diǎn)校準(zhǔn)及二點(diǎn)校準(zhǔn)。
可對(duì)測(cè)頭進(jìn)行基本校準(zhǔn)。
設(shè)有五個(gè)統(tǒng)計(jì)量:平均值(MEAN)、大值(MAX)、小值(MIN)、測(cè)試次數(shù)(NO)、標(biāo)準(zhǔn)偏差(S.DEV)??纱尜A和統(tǒng)計(jì)計(jì)算15個(gè)測(cè)量值。
具有兩種測(cè)量方式:連續(xù)測(cè)量方式(CONTINUE)和單次測(cè)量方式(SINGLE)。
自動(dòng)關(guān)機(jī)功能。
刪除功能:對(duì)測(cè)量中出現(xiàn)的單次可疑數(shù)據(jù)進(jìn)行刪除,也可刪除存貯區(qū)內(nèi)的所有數(shù)據(jù),以便進(jìn)行新的測(cè)量。
操作過(guò)程有蜂鳴聲提示。
有欠壓指示功能。
有錯(cuò)誤提示功能。
涂層測(cè)厚儀TT230主要技術(shù)指標(biāo)
測(cè)量原理:渦流法
測(cè)量范圍:1~1250μm
測(cè)量精度:±(3%H+1.5)μm(零點(diǎn)校準(zhǔn))
±[(1~3)%H+1.5] μm(二點(diǎn)校準(zhǔn))
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